Технический директор Intel Пушкар Ранаде оценил, насколько компания могла бы нарастить производство передовых чипов при нынешней доступности оборудования. По его словам, установок в мире, вероятно, хватило бы для удвоения её выпуска, но не для десятикратного увеличения. Для большего роста должны расширять производство и поставщики оборудования, и их собственные поставщики.
Ранаде пояснил, что дефицит затрагивает не только EUV-сканеры ASML, но и другие виды установок. При этом на готовой производственной линии нельзя просто заменить недоступную машину аналогом другого изготовителя: технологический процесс уже настроен под определённое оборудование.
Часть существующих установок Intel рассчитывает использовать повторно при переходе на следующий техпроцесс. В качестве примера Ранаде назвал переход с 18A на 14A: по его оценке, около 80% набора оборудования можно сохранить. Для более плотных структур всё равно потребуются новые машины с дополнительными возможностями.
Разрыв с TSMC в масштабах производства, по словам Ранаде, будет сокращаться постепенно. Он считает, что при разнице в несколько процентов по производительности, энергопотреблению или плотности важнее вовремя запустить техпроцесс, добиться высокого выхода годных кристаллов и быстро наращивать объёмы.
